Обычное оборудование для фотолитографии передает рисунок схемы, проецируя его на смолу, которая нанесена на пластину для выжигания схемы ультрафиолетом. Canon предложила технологию наноимпринтной литографии, которая переносит рисунок на пластину с помощью штамповки формы с рисунком. Этот способ повышает точность нанесения.
Система позволяет создавать схемы с минимальной шириной линий 14 нм, что соответствует 5-нм техпроцессу, который необходим для выпуска современных логических полупроводников. С 2020 года 5 нм-чипы производят Samsung и TSMC, а в этом году начал выпускать китайский полупроводниковый гигант SMIC.
Первую машину для наноимпринт-литографии поставили в Техасский институт электроники в конце сентября. Ученые будут использовать ее для исследований и разработок передовых полупроводников, производства прототипов.
Ранее в сми сообщали, что по цене литографа ASML можно будет купить 10 литографов Canon, об этом говорил глава японской компании. К слову, ASML как раз предпочитает литографию с использованием ультрафиолета. По итогам прошлого года ASML занимала более 90% мирового рынка фотолитографии, она работает на рынке уже 40 лет.
Но этим летом стало известно, что нидерландские власти под давлением США не будут продлевать лицензии на обслуживание оборудования для полупроводникового производства в Китае и также не будут поставлять запчасти. При этом около половины выручки ASML приходит из Китая, это важнейший рынок для компании, но политика есть политика.
В результате некоторые станки в Китае могут выйти из строя в 2025 году. Canon вполне может частично занять освободившуюся нишу со своей новой разработкой. Китайские решения пока могут конкурировать лишь со старым оборудованием ASML, но ситуация вскоре может измениться. Китайские власти вложили более 5 миллиардов долларов в разработку и создание фотолитографа для 28 нм-чипов.
В России производство литографов пока на начальной стадии — раньше оно особо никого не интересовало, не было технологий и все потребности закрывал импорт. После 2022 года все поменялось. У СПбПУ в прошлом году получилось создать литографический комплекс из установок для безмасочного получения изображения, но его судьба на данный момент неизвестна. В этом году представили первую установку для производства чипов 350 нм (это уровень 1990-х и «нулевых»). Ее тестируют в Зеленограде. В ИПФ РАН разрабатывают первый отечественный литограф для топологии 7 нм, но на это уйдут годы.
Собственно, на этом все. Но оборудование нужно сейчас, поэтому Россия импортировала старенькие литографы ASML в обход санкций через Китай. После появления этой компрометирующей новости чиновники выкатили серьезные цифры: проведут 110 конструкторских работ по производству микроэлектроники, по их итогам ожидается 10 установок для литографии. К концу 2026 года будет готова литография с УФ-диапазоном чипов 350 нм и 130 нм. Собственный литограф для 28 нм-чипов (который активно финансируют в Китае) появится в России только к 2028 году.